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材料試作

赤外線イメージ炉

主な用途

反射鏡と組み合わせた近赤外線ランプにより、試料の加熱、冷却を従来の電気抵抗炉に比べて急速に行うことができ、熱サイクル試験も可能です。
また、専用の温度制御器により、高精度な温度制御が可能です。
雰囲気中の評価も可能です。

主な仕様

加熱温度 ~1200℃
加熱方式 赤外線ランプ加熱
4惰円共有集光加熱
有効加熱範囲 約15φ×50L(mm)
その他 強制冷却が可能
材料試験機に取付可能

装置の説明図および写真

急昇温・急冷熱処理状況
試験装置正面
試験装置側面

その他情報

温度サイクル例

材料試作